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利用獨特的版圖編輯和驗證功能,化解 MEMS 設計挑戰
2019-06-01
自能夠使用改良的半導體器件製造技術製造 MEMS 器件以來,微機電系統 (MEMS) 便一直保持著飛快的發展速度。在 IC 設計中廣泛使用的版圖工具自然而然也成為了MEMS 版圖設計的首選工具。儘管 IC 版圖工具已相當成熟,並且具有豐富的 IC 應用功能,但若要高效應對 MEMS 版圖帶來的挑戰,其中許多工具仍有些力不從心。
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